外觀設(shè)計專利申請

外觀設(shè)計指的是對產(chǎn)品的形狀，圖案或者其結(jié)合以及色彩與形狀，圖案的結(jié)合所作出的富有美感并適用于工業(yè)應(yīng)用的新設(shè)計。而外觀設(shè)計專利指的是申請人就該外觀設(shè)計向國家專利局申請專利保護，經(jīng)過專利局審核，認為滿足《專利法》和《專利實施細則》的規(guī)定，授予一定期限內(nèi)獨占的權(quán)利（對該授權(quán)設(shè)計方案享有獨占性的制造、許諾銷售、銷售、進口其外觀設(shè)計專利產(chǎn)品）。

外觀設(shè)計專利申請流程：

 

 

1.   外觀設(shè)計專利申請階段

      申請外觀設(shè)計專利，專利申請文件應(yīng)當包括：外觀設(shè)計專利請求書、圖片或者照片。要求保護色彩的，還應(yīng)當提交彩色圖片或者照片一式兩份。提交圖片的，應(yīng)當均應(yīng)為圖片，提交照片的，應(yīng)當均應(yīng)為照片，不得將圖片或照片混用。如對圖片或照片需要說明的，應(yīng)當提交外觀設(shè)計簡要說明。委托專利代理機構(gòu)的，應(yīng)提交委托書。申請費用減緩的，應(yīng)提交費用減緩請求書及相應(yīng)的證明文件。

 

 

2.   外觀設(shè)計專利審查階段

      中國對外觀設(shè)計專利申請實行初步審查制度。在初步審查過程中，審查員會針對申請文件中的形式問題發(fā)出補正通知書。申請人針對該通知書做出補正。同時審查員會針對是否屬于外觀設(shè)計專利保護客戶進行審查，若存在不屬于外觀設(shè)計專利保護客戶的，審查員將發(fā)出審查意見通知書，申請人針對該審查意見通知書進行答復或者對申請文件進行修改。

 

 

3.   外觀設(shè)計專利授權(quán)階段

⑴授權(quán)：在通過初步審查后，審查員會發(fā)出授予專利權(quán)通知書。申請人在接到授予專利權(quán)通知書之后，需要辦理以下登記手續(xù)：在規(guī)定的期限內(nèi)繳納專利登記費、授權(quán)當年的年費、公告印刷費以及專利證書印花稅。

⑵頒發(fā)證書：申請人在辦理登記手續(xù)之后即可獲得專利證書。此段時間約為2-3個月左右。

外觀設(shè)計專利申請條件：

外觀設(shè)計專利(Industrial Design)是指：對產(chǎn)品的形狀、圖案或其結(jié)合以及色彩與形狀、圖案的結(jié)合所做出的富有美感并適于工業(yè)應(yīng)用的新設(shè)計。外觀設(shè)計是指工業(yè)品的外觀設(shè)計，也就是工業(yè)品的式樣。

外觀設(shè)計專利申請所須提交的材料：

1、產(chǎn)品正投影六面視圖、照片或提供產(chǎn)品以便拍照；

2、外觀設(shè)計專利的名稱；

3、申請人為單位的需要單位蓋章；申請人為個人的需要個人簽字；

4、申請人為單位的需要營業(yè)執(zhí)照復印件；申請人為個人的需提供個人身份證復印件；

5、提供清楚的申請人名稱、詳細地址、電話、郵編、設(shè)計人名稱等材料。

外觀設(shè)計專利注意事項：

1、圖片或照片的尺寸應(yīng)介于3厘米×8厘米和15厘米× 22厘米之間；

2、圖片必須用電腦繪制或正規(guī)制圖工具繪制；

3、立體產(chǎn)品圖片應(yīng)包括主視圖、后視圖、左視圖、右視圖、俯視圖、仰視圖和立體圖；平面產(chǎn)品圖片包括主視圖和后視圖（對稱或相同的可省略）；

4、各個視圖的比例必須一致；

5、圖片或照片中不得有不是構(gòu)成外觀設(shè)計的圖形或文字，如商標、標志、名人肖像、也不得有指示線、虛線、中心線、尺寸標記等；

6、所需時間：從申請到授權(quán)一般需要3~6個月左右，辦理授權(quán)手續(xù)后三個月內(nèi)頒發(fā)《外觀設(shè)計專利證書》。

補充說明：

 實用新型專利和外觀設(shè)計專利，國家實行的初步審查制，也就是，初審合格即授權(quán)發(fā)專利證書，沒有經(jīng)過發(fā)明專利的實質(zhì)審查程序，所說的實質(zhì)審查程序，是指審查員會檢索全球與申請專利相關(guān)的專利文獻，來評價申請專利是否具備授權(quán)條件的一個審查程序，實用新型和外觀專利由于沒 有經(jīng)過這個程序，因此相對于發(fā)明專利來說，其缺乏一定的穩(wěn)定性。

外觀設(shè)計專利的保護期限

外觀專利權(quán)的保護期限自申請日起10年（2021年6月后改為15年），每年需要繳納專利年費。

申請專利一定能夠拿到證書嗎？

專利申請是有風險的，并不是申請了就一定能夠授權(quán)。一般而言，外觀設(shè)計和實用新型專利申請由于只需通過初步審查即可獲得授權(quán)， 因而授權(quán)失敗的風險不大，而發(fā)明專利申請需要通過初步審查和實質(zhì)審查才能獲得授權(quán)，因而授權(quán)失敗的風險較大。